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      低溫等離子廢氣處理設備的技術機理

             等離子體去除惡臭是通過兩個途徑實現的:一個是在高能電子的瞬間是高能量作用下,打開某些有害氣體分子的化學鍵,使其直接分解成單質原子或無害分子;另一個是在大量高能電子、離子、激發態粒子和氧自由基、氫氧自由基(自由基因帶有不成對電子而具有很強的活性)等作用下的氧化分解成無害產物。主要有下面幾個過程:

       

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      1、在高能電子作用下,強氧化性自由基O、OH、OH2的產生;
      2、有機物分子受到高能電子碰撞被激發,及原子鍵斷裂形成小碎片基團和原子;
      3、O、OH、HO2與激發原子、有機物分子、廢氣處理公司破碎的基團、其他自由基等發生一系列反應,有機物分子最終被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的高低與電子能量和有機物分子結合鍵能的大小有關。
      從除臭機理上分析,主要發生以下反應:
       
                 H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O
       
                 NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O
       
      H2S去除率可達91.9%,NH3去除率可達93.4%,臭氣濃度去除率可達93.6%。
      從上述反應來看,惡臭組分經過處理后,轉變為NOx、SO2、CO2、H2O等小分子,在一定的濃度下,各種反應的轉化率均在95%以上,而且惡臭濃度較低,因此產物的濃度極低,均能被周邊的大氣所接受。

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